Проектирование оптико-электронных устройств

О курсе

Цель подготовки: Совершенствование профессиональных компетенций инженерно-технического состава, среднего и высшего управленческого звеньев в области проектирования и технологий оптико-электронных приборов и систем, приобретение новых профессиональных компетенций за счет изучения современных методов проектирования и технологий изготовления оптоэлектронных устройств.

Объём программы: 72 академических часа.

Форма реализации программы: очно-заочное обучение с применением дистанционных образовательных технологий и электронного обучения.

Требования к поступающим:
— высшее образование

Чему вы научитесь

В результате обучения вы:

1. освоите современные методы разработки лазерной техники, расчета дифракционной микрооптики, технологии микро и наноструктур;
2. приобретете практический опыт технологий изготовления вакуумных оптических покрытий, работы в программной среде проектирования оптических систем, моделирования тонкопленочных многослойных оптических покрытий

Акцент обучения сделан на приобретении опыта применения современных методов проектирования и технологических процессов производства оптоэлектронных приборов и систем с учетом физических принципов действия.

В программе обучения:

1. ЛАЗЕРНАЯ ТЕХНИКА И ПРИКЛАДНАЯ ОПТИКА. Законы квантовой электроники. Методы управления характеристиками лазерного излучения. Монохроматические и хроматические аберрации оптических элементов и систем.
2. ИК-ОПТИКА. Материалы и технологии изготовления оптических элементов. Волоконная ИК оптика. Технология микро- и наноструктур. Дифракционная оптика.
3. ВАКУУМНЫЕ ОПТИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ. Конструкция, расчет и технологии изготовления.
4. КОНСТРУИРОВАНИЕ И КОМПЬЮТЕРНОЕ ПРОЕКТИРОВАНИЕ ОПТИКО-ЭЛЕКТРОННЫХ УСТРОЙСТВ. Излучатели и фотоприемники ИК-диапазона. Программная среда Zemax. Компьютерное моделирование оптических узлов.
5. ТОНКОПЛЕНОЧНЫЕ МНОГОСЛОЙНЫЕ ОПТИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ. Компьютерное моделирование и расчет.
6. ОПТИЧЕСКИЕ ИЗМЕРЕНИЯ. Характеристики изображающих систем, пространственно-энергетические и временные характеристики лазерного излучения.
7. КОНТРОЛЬ ОПТИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ С ПРИМЕНЕНИЕМ РАМАНОВСКОЙ СПЕКТРОСКОПИИ. Принципы и анализ спектров.

Имеющееся оборудование

Обучение проводится с использованием современного оборудования НОЦ нанотехнологий и НИЛ-96 «Фотоника», включая прецизионную контрольно-измерительную аппаратуру для проведения технических испытаний оптико-электронных блоков и систем лазерной техники, систему лазерной флуоресцентной и Рамановской микроскопии, научно-учебный комплекс “Наноэдьюкатор” (сканирующие зондовые микроскопы НТ-МДТ), комплекс оборудования для исследования микро- и наноструктур (ИК-Фурье-спектрометр IR Prestige-21, сканирующий спектрофотометр UV-2450 РС, установка комплексного элипсометрического исследования свойств пленок и гетероструктур), СЗМ комплекс ИНТЕГРА Томо, установка магнетронного распыления ЭТНА-100-МТ, установка плазмохимического травления ЭТНА-100-ПТ, растровый электронный микроскоп Quanta 200, Фурье-ИК спектрометр Tensor 27 с микроскопом Hyperion 1000.

Документ об окончании

Удостоверение о повышении квалификации установленного образца.